为了不断提高电子显微镜解析度和成像品质，制造商的环境规范变得越来越严格，配备光谱仪的高阶显微镜只能承受高达10 或20 奈米特斯拉的干扰；在无法迁移其他设备并重新安置所有设施的情况下，可以采取不同措施来应对震动和磁场的严重性并抵消其影响。

在许多情况下，我们必须对环境做量测或监控，以确保环境在符合标准的磁场、震动、声波等范围内。例如：在安装电子显微镜、电子束微影系统、CD-SEM 和聚焦离子束显微镜等仪器之前的环境评估、找出实验室设备运作问题的原因、长期维持敏感设备稳定度等等。

SEM、TEM电子显微镜是现今微米、奈米科技研发与检验的重要工具，用来观测微结构的表面形貌和物质的元素组成，然而环境周围的电磁干扰、震动、噪音也会对电子显微镜的性能造成影响，如何有效量测并分析环境具有哪些干扰因子并将干扰程度数据化，以帮助研究员选择对应的解决方案，成为了现代科学中一门重要的课题…

2023年半导体虽然面临后疫情时代的市场挑战，先进制程微缩仍是半导体制造业的发展趋势，其中电子束微影（Electron Beam Lithography，简称EBL）更是具潜力发展的技术之一，其应用范围包含：微小电子元件、生物芯片、光学元件、量子器件、奈米结构材料、微型机械结构等领域。因此，如何在复杂技术中提高良率以降低成本，解决电磁干扰等环境问题至关重要。

在半导体产业中，电子显微镜是品质控管(Quality Control，简称QC)的重要工具，工程师们透过电子显微镜对晶片做微观结构分析，找出可能存在的问题与缺陷，以优化产品制程。随着微电子元件、微控制器的「微」时代来临，半导体制程需要更高倍率、更高解析的成像品质。然而，来自于外部环境的众多干扰，让高解析度成为一项挑战。