2023年半导体虽然面临后疫情时代的市场挑战，先进制程微缩仍是半导体制造业的发展趋势，其中电子束微影（Electron Beam Lithography，简称EBL）更是具潜力发展的技术之一，其应用范围包含：微小电子元件、生物芯片、光学元件、量子器件、奈米结构材料、微型机械结构等领域。因此，如何在复杂技术中提高良率以降低成本，解决电磁干扰等环境问题至关重要。

在半导体产业中，电子显微镜是品质控管(Quality Control，简称QC)的重要工具，工程师们透过电子显微镜对晶片做微观结构分析，找出可能存在的问题与缺陷，以优化产品制程。随着微电子元件、微控制器的「微」时代来临，半导体制程需要更高倍率、更高解析的成像品质。然而，来自于外部环境的众多干扰，让高解析度成为一项挑战。