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如何提高电子束微影的良率:掌握消磁器选择的关键

2023年半导体虽然面临后疫情时代的市场挑战,先进制程微缩仍是半导体制造业的发展趋势,其中电子束微影(Electron Beam Lithography,简称EBL)更是具潜力发展的技术之一,其应用范围包含:微小电子元件、生物芯片、光学元件、量子器件、奈米结构材料、微型机械结构等领域。因此,如何在复杂技术中提高良率以降低成本,解决电磁干扰等环境问题至关重要。

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突破电子显微镜成像瓶颈—新SC24 Plus全面监控多种环境干扰、消除EMI问题
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突破电子显微镜成像瓶颈—新SC24 Plus全面监控多种环境干扰、消除EMI问题

在半导体产业中,电子显微镜是品质控管(Quality Control,简称QC)的重要工具,工程师们透过电子显微镜对晶片做微观结构分析,找出可能存在的问题与缺陷,以优化产品制程。随着微电子元件、微控制器的「微」时代来临,半导体制程需要更高倍率、更高解析的成像品质。然而,来自于外部环境的众多干扰,让高解析度成为一项挑战。

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剑桥大学电子显微镜安装消磁系统特殊案例
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剑桥大学电子显微镜安装消磁系统特殊案例

当剑桥大学生物化学系准备安装Thermo Fisher Titan Krios电子显微镜时,该位置被量测出有磁场干扰的问题。由于Krios的液碳氮设备较大,需要保持地板通道通畅,Spicer Consulting的团队面临着无法在地面上铺设线圈的的挑战…

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应用专栏插图14
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伦敦国王学院电子显微镜环境量测

Spicer Consulting的Robert Christy博士在KCL的超微结构成像中心(CUI)谈论电子显微镜环境调查。我们正在伦敦国王学院(King’s College London)为一些高阶精密仪器测量环境。规划的场地约有五个房间的空间大小…

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